SUMITOMO住友重机械 SS-UHE 高能离子 植入装置
SUMITOMO住友重机械 SS-UHE 高能离子 植入装置 SUMITOMO住友重机械 SS-UHE 高能离子 植入装置定位与用途全称：SS‑UHE Ⅱ（Serial Ultra High Energy）枚葉式超高エネルギーイオン注入装置厂商：住友重機械イオンテクノロジー（SHI Ion Technology）定位：S‑UHE 升级款，全球超高能离子注入机标杆一、核心用途：高端图像传感
SUMITOMO住友重机械 SS-UHE 高能离子 植入装置
SUMITOMO住友重机械 SS-UHE 高能离子 植入装置
定位与用途
全称：SS‑UHE Ⅱ（Serial Ultra High Energy）枚葉式超高エネルギーイオン注入装置
厂商：住友重機械イオンテクノロジー（SHI Ion Technology）
定位：S‑UHE 升级款，全球超高能离子注入机标杆
一、核心用途：
高端图像传感器（CIS/CCD）：光电二极管深层、高精度注入
先进逻辑 / 存储：三重阱、深埋层、高压器件深层掺杂
功率半导体：SiC/GaN 等宽禁带材料高能注入
二、核心规格（SS‑UHE Ⅱ）
加速架构：18 段 RF 直线加速器（Linac）+ 对称束流线设计
能量范围：
最小：85 keV（DC）
最大：14.4 MeV（单电荷离子，较 S‑UHE 提升约 2 倍）
晶圆尺寸：300mm（兼容 200mm）
产能：>600 片 / 小时（较 S‑UHE 提升 30%+）
注入精度：
剂量均匀性：<0.3%（1σ）
注入角度控制：±0.05°（极致抑制沟道效应）
超低金属污染：<1e10 atoms/cm²
束流技术：静电扫描 + 平行化透镜 + 水平 / 垂直双轴角度闭环控制
三、与前代（S‑UHE）及竞品的差异
1. SS‑UHE Ⅱ vs S‑UHE
能量：14.4 MeV vs 2 MeV（大幅提升）
束流：最大束流提升约 50%，适配高剂量深层注入
产能：>600 片 / 小时 vs >450 片 / 小时
精度：角度控制 ±0.05° vs ±0.1°，均匀性更优
2. SS‑UHE Ⅱ vs HE3（多片式高能机）
架构：单片式（SS‑UHE）vs 多片批量式（HE3）
能量：14.4 MeV vs <1 MeV（SS‑UHE 超高能优势显著）
精度：单片式角度 / 均匀性远优于批量式，适合高端制程
四、关键技术亮点
对称束流线设计：减少束流畸变，实现超高能量下的高品质束流
双轴角度闭环控制：水平 + 垂直方向精准控角，抑制沟道效应，保证深层注入重复性
超低污染设计：全腔室高纯度材料 + 真空系统优化，满足先进制程严苛污染要求