SUMITOMO住友重机械 MC3-II/GP 中电流离子 植入装置

SAion是一款兼容300毫米的离子植入装置，彻底改造了其光学系统、传输系统和控制系统。
它具备宽能量剂量范围，集成了传统高电流和中电流器件，使得半导体制造中多种注入工艺能够使用该设备处理。特别是，通过将束流电流（相较中电流器件）在几乎所有工作范围内都超过两倍，显著提升了生产力。

在质量方面，新设计的传输系统实现了500张/小时的机械通量，同时成功抑制了细颗粒，这是半导体制造中降低良率的关键因素。在离子植入装置中，首次实现了关键束流质量信息的测量和控制，如束流散度角度和平行度，这些信息此前只能在晶圆表面不同位置测量，直接测量到产品晶圆表面。

这些定义SAion的特性不仅为当前一代的300mm晶圆主工艺设计，也为未来的450mm晶圆设计，实现未来平稳的工艺过渡。

SAion是第六代离子植入装置，具备高生产率和注射质量、广泛的操作灵活性，以及使工艺迁移极为便捷的理念。