【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜浓度监测仪 CU-502

【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜浓度监测仪 CU-502

【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜浓度监测仪 CU-502

产品概述

CU-502 盘装式在线铜浓度监测仪，采用交流点灯吸光光度法，用于硫酸铜镀铜液、蚀刻液中铜离子的连续在线监测。仪器内置参考光路，自动校正 LED 光源衰减，无需手工滴定，可持续输出浓度数据，接入产线自控系统，适用于 PCB、电镀工艺药液 24 小时不间断管控。

核心参数

测量原理：吸光光度法，带参考光自动补偿 LED 光量变化 测量项目：镀液中铜 Cu、硫酸铜 CuSO₄ 量程可选： Cu：0～20g/L/ 0～50g/L/ 0～80g/L CuSO₄：0～100g/L/ 0～200g/L/ 0～300g/L 分辨率：Cu 0.1g/L；CuSO₄ 1g/L 显示：红色 3 位 LED 数字显示 信号输出：隔离 DC4～20mA 报警接点：上下限无源报警接点 供电：AC85～240V，50/60Hz 外形尺寸：96×96×163mm，仪表盘嵌入式安装 接液部件：流通池，适配酸性硫酸铜镀液体系

产品特点

自带参考光路，自动补偿 LED 老化带来的漂移，长期在线稳定性好；替代人工滴定，实时连续监测，减少化验工作量；配备高低浓度上下限报警，浓度异常触发接点信号；4-20mA 模拟输出，对接 PLC、记录仪表实现自动化管控；支持零点、跨度校准，方便现场定期点检；盘装嵌入式设计，节省控制柜安装空间。

应用场景

PCB 印制电路板硫酸铜电镀槽铜浓度在线监测；电子、五金零部件酸性镀铜产线药液监控；硫酸铜蚀刻液铜离子连续监测；电镀工艺自动化产线药液闭环控制；工艺研发实验室药液在线监测。

使用注意事项

水样内大量悬浮杂质会干扰吸光度读数；仅适配硫酸铜镀铜、酸性蚀刻这类铜盐体系；流通池光学窗口禁止划伤、沾染油污；定期执行零点与跨度校准；维护时注意管路废液按危废规范处理；安装避开强光直射与剧烈震动。